HMDS 烘箱原理

     HMDS 烘箱也稱為HMDS預處理系統，HMDS蒸鍍機等，是將HMDS蒸汽通過干燥的真空腔內加熱到(120-150°C)，在襯底表面上HMDS作為單層膜進行化學結合，使這樣的襯底表面具有疏水性。

HMDS 烘箱技術指標

溫度范圍：RT+10-250℃

真空度：≤133pa（1torr）

控制儀表：人機界面，一鍵運行

HMDS控制：可設定

HMDS工藝：進入腔體到尾氣排出*密閉，無任何泄漏

安全檢測：在線檢測，HMDS泄漏警 報提示

儲液瓶：HMDS儲液瓶 

真空泵：無油渦旋真空泵

規格尺寸（mm）：300*300*300/450*450*450、定制

數據記錄：開機、待機、升溫、壓力等數據記錄

功能：脫水烘烤、增粘劑蒸鍍、后烘

用途 ：將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

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