HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變?yōu)槭杷员砻妗?/p>

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廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-09-16
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HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱原理：

HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變?yōu)槭杷员砻妗?/span>

光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題，除了受到分子鍵合的影響，還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素，會減少黏附性，從而造成掀膠和側向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對硅片表面進行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使硅片表面從親水性轉化為疏水性。

HMDS 涂布機采用蒸汽涂布的方式。簡單評價晶圓的表面黏附性好壞，可以將晶圓進行 HMDS 涂布，然后在晶圓的表面滴一滴水珠，然后通過測量水珠的接觸角，來進行晶圓表面黏附性好壞的判斷。接觸角的測量方法如下圖所示，當接觸角角度越大，說明黏附性越好，也就意味著疏水性越強。

HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱技術參數：

項目	雋思JS-HMDS90-AI
內膽大小	450450450（可選數據）
每cycle run(4寸產品)	200片
溫度范圍	室溫+10℃-250℃
HMDS加熱功能	有
HMDS流量控制	時間/調壓閥，無flow meter
尾氣排放	有
溫度精度	分辨率：0.1℃ 波動度：±1℃
真空泵	油泵或愛德華干泵，133PA
載物托架	兩層
溫度控制	微電腦智能控溫儀
Recipe設定	人機交互界面，PLC編程
N2循環(huán)	真空/沖N2 循環(huán)
HMDS系統(tǒng)	自動添加、自動吸取、添加量控制
保護裝置	緊急停止，跳電保護，超溫保護
其他	耐高溫手套，說明書

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